Ce type de plaque d'onde d'ordre zéro est constitué d'une véritable plaque d'onde d'ordre zéro et d'un substrat BK7 car la plaque d'onde est très fine et facile à endommager, la fonction de la plaque BK7 est de renforcer la plaque d'onde.
Caractéristiques: Large bande passante spectrale Large bande passante de température Bande passante grand angle Cimenté par Expoy |
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Numéro d'article :
WPAOrigine du produit :
FuZhouCaractéristiques:
Matériel:
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Quartz
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Tolérance de diamètre :
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+0,0, -0,1 mm
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Distorsion du front d'onde :
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λ/8 à 632,8 nm
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Tolérance au retard :
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λ/300
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Parallélisme:
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<1 seconde d'arc
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Qualité de surface :
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20/10
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Ouverture claire :
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>90%
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Revêtement:
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S1 et S2 : R<0,2 % à la longueur d'onde
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Longueur d'onde standard :
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355 nm, 532 nm, 632,8 nm, 780 nm, 808 nm, 850 nm, 980 nm, 1 064 nm, 1 310 nm, 1 480 nm, 1 550 nm
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Produits standards :
Plaques demi-onde P/N#
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Lames quart d'onde P/N#
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Diamètre (mm)
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WPF210
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WPF410
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10.0
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WPF212
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WPF412
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12,7
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WPF215
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WPF415
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15.0
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WPF220
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WPF420
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20.0
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WPF225
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WPF425
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25,4
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WPF230
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WPF430
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30,0
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Avantages techniques de la véritable lame d'onde d'ordre zéro :
La véritable lame d'onde d'ordre zéro permet d'obtenir un véritable retard de phase d'ordre zéro (non équivalent à une superposition multi-ordre) grâce à une conception d'épaisseur précise d'un seul matériau biréfringent, avec des avantages techniques, notamment : un contrôle de phase ultra-précis, permettant d'obtenir une précision de retard de niveau λ/1000 (erreur de phase). < 0,1 %) et dépendance à la longueur d'onde < 0,5 % sur toute la gamme spectrale de 350 à 2 200 nm, surpassant de loin les structures multi-ordres/cimentées traditionnelles ; stabilité de température extrêmement large, avec variation de retard < 1,5 % en fonctionnement entre -50 °C et 120 °C, éliminant ainsi le besoin de contrôle de température dans les environnements extrêmes ; et un seuil de dommage laser ultra-élevé (> 20 J/cm² à 1064 nm, 10 ns), adapté aux applications haute puissance comme les lasers pulsés femtosecondes. Dans les systèmes de sources lumineuses à intrication quantique, sa sensibilité aux longueurs d'onde subnanométriques améliore la fidélité de l'état de polarisation à plus de 99,9 % ; dans les équipements de lithographie dans l'extrême ultraviolet (EUV), son retard de phase stable assure une précision de polarisation de ± 0,05° pour les sources lumineuses de 13,5 nm, contribuant ainsi à optimiser la résolution lithographique des motifs de circuits à l'échelle nanométrique.