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Lame d'onde d'ordre faible de 193 nm

MAISON Polariseurs VUV personnalisés pour laser à 193 nm

Lame d'onde d'ordre faible de 193 nm

lame à ondes ultraviolettes profondes
Lame d'onde d'ordre faible de 193 nm

193 nm Ordre faible Lame d'onde, un dispositif de polarisation ultraviolette profonde, ajuste avec précision l'état de polarisation de la lumière incidente. Utilisé dans les systèmes DUV comme la lithographie et la recherche laser, il est fabriqué à partir de matériaux résistants aux radiations de 193 nm pour plus de stabilité et de précision.

 

Caractéristiques:

Épaisseur : 0,1-0,5 mm

Seuil de dégâts élevé

 

  • Numéro d'article :

    WPL
  • Origine du produit :

    FuZhou
NOUVEAUX PRODUITS

Caractéristiques:

Matériel:
Quartz
Tolérance de diamètre :
+0,0, -0,1 mm
Distorsion du front d'onde:
λ/8 à 632,8 nm
Tolérance au retard:
λ/50
Parallélisme:
<1 seconde d'arc
Qualité de surface:
20/10
Ouverture claire:
>90%
Revêtement:
S1 et S2 : R<0,2 % à la longueur d'onde
Longueur d'onde standard:
193,368 nm

 

193 nm Produits:

Plaques demi-onde P/N#
Lames quart d'onde P/N#
Diamètre (mm)
WPL-210-193
WPL-410-193
10.0
WPL-212-193
WPL-412-193
12,7
WPL-215-193
WPL-415-193
15.0
WPL-220-193
WPL-420-193
20.0
WPL-225-193
WPL-425-193
25,4
WPL-230-193
WPL-430-193
30,0
WPL-235-193
WPL-435-193
35,0
WPL-250-193
WPL-450-193
50,0

 

Avantages techniques des lames d'onde multi-ordres de 193 nm :
Les lames à onde multi-ordres de 193 nm permettent d'obtenir un retard de phase de grande amplitude grâce à l'optimisation de matériaux biréfringents adaptés aux longueurs d'onde ultraviolettes profondes et à la combinaison d'une technologie de finition par faisceau d'ions. Leurs principaux avantages sont une grande précision de retard avec des erreurs de phase. <±1 % à la longueur d'onde de 193 nm — L'application de la technologie de finition par faisceau d'ions réduit considérablement les micro-écarts d'épaisseur optique des matériaux, offrant ainsi un contrôle plus précis de la polarisation pour les systèmes laser ultraviolets profonds tels que les lasers excimères. Sa structure compacte élimine le recours à des conceptions en cascade complexes, ce qui la rend particulièrement adaptée aux modules optiques ultraviolets profonds intégrés dans les systèmes de lithographie. Un seuil de dommage laser élevé (> 5 J/cm² à 193 nm) garantit sa fiabilité dans les applications ultraviolettes profondes de forte puissance, tandis que la surface ultra-lisse formée par la finition par faisceau d'ions réduit encore le risque d'accumulation locale d'énergie sous irradiation laser haute énergie. Dans les systèmes de mesure de la polarisation spectrale ultraviolette profonde, le retard de phase stable assuré par la finition par faisceau d'ions maintient l'erreur de mesure du degré de polarisation à moins de 2 %, facilitant ainsi l'analyse de polarisation de haute précision dans des scénarios tels que la caractérisation des résines photosensibles et la spectroscopie de la couche d'ozone atmosphérique.

 

 

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